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供应匀胶烤胶机

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    匀胶烤胶机 

型号MODEL: CB-1B

该产品用途可在光刻工艺中的涂胶后的软烘,暴光后烘,显影后的坚膜,磨片粘片熔腊等。它采用整体铸造,加热板作为加热体,增强了设备的安全性。采用单片机作为控制核心部件,提高了控温精度(±1℃)。该设备对一些温度敏感材料(如晶体、半导体、陶瓷等)进行加热和装卡尤为适用。该设备结构简单,操作简便,安全可靠,是从事材料研究生产必不可少的工具。  

性能指标: 

1、转速和时间特点是调速范围:300-8000转/分     

 匀胶时间:1-3600秒  

2、LED数字显示,转速稳定度:±1%,胶的均匀性:±3%。  

3、电源电压:220V/50Hz  

4、电机功率:90W  

5、适用:Φ5-Φ100mm硅片及其它材料等匀胶。     

真空泵抽气速率≥60升/分 

6、仪器尺寸:210×220×160mm  

7、转速调节形式,采用变频电源控制器调节 

 8、烘胶板规格,ø200mm 

 9、烘烤温度,≤200℃  

10、整体台面560×360×250mm

供应商:作为全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩膜对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上最早将匀胶机、光刻机商品化的公司,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;依优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。

 
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